設(shè)備概況

干法刻蝕機(jī)的核心是真空反應(yīng)腔，其中央卡盤通過靜電吸附固定晶圓。工藝過程中，從反應(yīng)腔上方通入鹵族氣體、氟基氣體等反應(yīng)氣體，這些氣體在高頻電場(chǎng)作用下被電離，形成等離子體。等離子體轟擊晶圓表面，通過物理濺射直接去除材料原子，或通過化學(xué)反應(yīng)生成揮發(fā)性化合物，從而實(shí)現(xiàn)精確的刻蝕效果。

課題

1. 分析熱盤特性，建立正確數(shù)學(xué)模型。

2. 規(guī)劃控溫曲線高速升溫，同時(shí)保證同步性。

解決方案

1. 引入系統(tǒng)辨識(shí)技術(shù)，確定PID控制律中目標(biāo)值和反饋值兩者的準(zhǔn)確數(shù)學(xué)模型。

2. 使用過渡過程處理TD算法，規(guī)劃一條合理的實(shí)際控溫曲線，實(shí)時(shí)反推PID的多分區(qū)目標(biāo)值，周期性作用到PID控制中。

系統(tǒng)配置

實(shí)現(xiàn)價(jià)值

【工程師層】

■ 升溫時(shí)間由90秒縮短到65秒，同步性偏差由6℃提升至1.8℃，提升熱盤升溫過程中的同步效果。

【管理層】

■ 通過溫度控制技術(shù)關(guān)聯(lián)蝕刻速率調(diào)控，支持加工精度與能效的協(xié)同優(yōu)化，探索資源效率提升路徑。

【經(jīng)營(yíng)層】

■ 通過持續(xù)的技術(shù)創(chuàng)新與應(yīng)用，優(yōu)化產(chǎn)品性能與生產(chǎn)流程，助力客戶構(gòu)建市場(chǎng)差異化優(yōu)勢(shì)，服務(wù)產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。

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